高周疲劳下Si/Ti/Cu/SiN层合材料中细晶铜滑移的试验研究

来源 :2014年全国固体力学学术大会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:iyt1713
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  进行了拉-压全反向高周疲劳实验,对Si/Ti/Cu/SiN层合材料的疲劳损伤特性进行了试验研究,其中铜薄膜晶粒经过细化。试验中设计了带有附加质量的悬臂梁试样,采用基底激励共振方法,实现了试样拉-压全反向高周疲劳加载。高周加载后,细晶铜表面出现了滑移变形及其导致的挤出侵入现象。利用电子背散射衍射技术辨识了细晶铜表面晶粒分布和取向,发现滑移带未出现于Schmid因子最大的晶粒。与数值计算所得细晶铜表面应力对比后,发现滑移带位于分切应力最大晶粒。该现象可能的机理是细晶铜中晶粒细化导致晶间及晶界作用加强,使应力发生了重分布,因此滑移带未出现于Schmid因子最大晶粒。
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