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自从在Co/Cu颗粒膜中发现巨磁电阻效应以来,由于其简单的制备工艺以及在自旋电子器件中潜在的应用引起了人们的广泛关注。笔者研究了有关于超薄磁性金属/半导体薄膜的性质，通过磁控溅射循环沉积了[Co(0.6nm)/Zn0(1.0nm)](N)和[Co(0.6nm)/ZnA10(l.0nm)](N)薄膜，其中循环周期N=2―10,相应的薄膜标定厚度在3.2―16nm之间，然后对薄膜的结构和室温磁电阻效应进行了研究，并进行了分析。