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非掺GaSb单晶片抛光工艺研究
非掺GaSb单晶片抛光工艺研究
来源 :第九届全国化合物半导体.微波器件.光电器件学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:caiaikai
【摘 要】
:
分析了非掺GaSb单晶片的化学抛光机制和影响非掺GaSb单晶片抛光的因素,得到了非掺GaSb的抛光工艺,利用该工艺可以制备表面质量优良的非掺GaSb抛光片。
【作 者】
:
樊成才
【机 构】
:
有色金属研究总院
【出 处】
:
第九届全国化合物半导体.微波器件.光电器件学术会议
【发表日期】
:
1996年期
【关键词】
:
单晶片
抛光工艺
表面质量
抛光片
抛光机
化学
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分析了非掺GaSb单晶片的化学抛光机制和影响非掺GaSb单晶片抛光的因素,得到了非掺GaSb的抛光工艺,利用该工艺可以制备表面质量优良的非掺GaSb抛光片。
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