切换导航
文档转换
企业服务
Action
Another action
Something else here
Separated link
One more separated link
vip购买
不 限
期刊论文
硕博论文
会议论文
报 纸
英文论文
全文
主题
作者
摘要
关键词
搜索
您的位置
首页
会议论文
UHV/CVD系统外延生长锗硅碳三元合金
UHV/CVD系统外延生长锗硅碳三元合金
来源 :第六届全国固体薄膜学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:wolaixunbao
【摘 要】
:
SiGeC三元合金近年来日益成为人们研究的热点之一。碳的加人为SiGe系统在能带和应变工程上提供了更大的灵活性。处于替代位置的碳能缓解SiGe合金的应变,同时调节其能带。该文
【作 者】
:
亓震
黄靖云
【机 构】
:
大学硅材料国家重点实验室(杭州)
【出 处】
:
第六届全国固体薄膜学术会议
【发表日期】
:
1998年期
【关键词】
:
CVD系统
外延生长
锗硅碳合金
三元合金
灵活性
位置
实验
工程
调节
下载到本地 , 更方便阅读
下载此文
赞助VIP
声明 : 本文档内容版权归属内容提供方 , 如果您对本文有版权争议 , 可与客服联系进行内容授权或下架
论文部分内容阅读
SiGeC三元合金近年来日益成为人们研究的热点之一。碳的加人为SiGe系统在能带和应变工程上提供了更大的灵活性。处于替代位置的碳能缓解SiGe合金的应变,同时调节其能带。该文介绍了用UHV/CVD系统生长的锗硅碳合金,并对实验结果进行了简要分析。
其他文献
SiC纳米棒的拉曼光谱与缺陷效应
会议
纳米棒
拉曼光谱
离散动力系统生成Sierpinski三角形
在分形几何中,Sierpinski三角形是一个典型的并且非常有代表性的分形图形,它的生成方法有若干种,本文在研究离散动力系统的基础上,提出了一种生成Sierpinski三角形的全新方法
会议
离散动力系统
系统生成
三角形
生成方法
分形图形
分形几何
新方法
特性
基础
干种
Y<,2>O<,3>-Al<,2>O<,3>-Al添加剂碳化硅陶瓷的制备及其显微结构分析
该研究分别用sol-gel法引入Y〈,2〉O〈,3〉和Al〈,2〉O〈,3〉添加剂组分,用机械研磨法混匀铝金属添加剂组分,在氮气气氛中和1810℃的低温下热压烧结SiC,分析了SiC陶瓷的显微结构和物相转变。研究表明:通过烧结反
会议
金属添加剂
碳化硅陶瓷
铝金属
物相转变
机械研磨法
组分
显微结构
烧结反应
热压烧结
晶相转变
氮气气氛
中和
液相
晶粒
应变SiGe/Si多量子阱的光荧光研究
Si的非直接带结构使得它在光子学领域的发展与应用到很大的限制,因此,到目前为止,光子学技术的研究是以III-V族为主体。要实现电子学与光子学技术的有效结合,实现光电子单片集成
会议
多量子阱
光子学
学技术
光电子学材料
器件
单片集成
非直接
带结构
应用
目标
SiGeSi量子阱材料的导纳谱测试
会议
SiGe/Si量子阱材料
导纳谱测试
UHV/CVD法生长SiGe/Si异质结研究
UHV/CVD (超高真空化学气相沉积)是近年来发展起来的一项生长技术。它兼有MBE(分子束夕延)和MOCVD(金属有机物化学气相沉积)的性能,在SiGe/Si等异质结构的外延生长中显示出了许多优越
会议
SiGe/Si异质结
超高真空化学气相沉积
SiGe分子束外延材料及其应用
会议
SiGe
外延材料
磁控溅射制备技术大块SiGe纳米晶材料的实验研究
本文首次报道了磁控溅射制备大块SiGe纳米材料的实验研究.在加工SiGe复合靶的实验基础上,采用射频磁控溅射技术,于玻璃衬底和Si衬底上,制备了一系列SiGe纳米晶薄膜,X射线小角
会议
SiGe
溅射
纳米晶
光学器件
电子器件
SiGe\\Si HBT及其Si兼容工艺研究
作者对SiGe/Si HBT及其兼容工艺进行了研究,在研究了一些关键的单项工艺的基础上,提出了五个高速SiGe/SiHBT结构和一个低噪声SiGe/SiHBT结构,并已初步研制成功台面结构SiGe/SiHBT和低噪声SiGe/SiHBT,为进一步高指标的SiGe/SiHBT的研究建立了基
会议
面结构
低噪声
兼容工艺
基础
高指标
单项
UHV/CVD生长SiGe组分渐变缓冲层的应变驰豫
会议
组分
缓冲层
与本文相关的学术论文