Microstructures and Dielectric Properties of Zn2SnO4Thin Films Annealing at Low Temperature by RF Ma

来源 :2016年台湾陶瓷学会年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:realg007
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  The microstructures and dielectric properties of Zn2SnO4 thin films were investigated.Zn2SnO4 thin films were prepared using the radio frequency magnetron sputtering with various Ar/(Ar+O2)ratios.The Zn2SnO4 thin films were analyzed by X-ray diffraction(XRD)and microstructural observations.The thickness of the Zn2SnO4 thin films in the range from 342 to 973 nm as the Ar/(Ar+O2)ratio varied from 0.4 to 1.0.The surface roughness of Zn2SnO4 thin films decreased from 6.0 to 1.7 nm as the Ar/(Ar+O2)ratio increased from 0.4 to 1.0.Dielectric constants(εr)of 77-439 and loss factor of 0.49-0.80 of Zn2SnO4 thin films were measured at 1 MHz with Ar/(Ar+O2)ratio in the range of 0.4-1.0.
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此篇研究主題為在軟性基板上成長高導電、高透光之氧化物。作為氧化銦錫(ITO)的絕佳替代材料,我們選擇鋁摻雜氧化鋅(AZO),透過凡德瓦磊晶機制,成長於白雲母上,並利用透過X 光繞射分析,鑑定薄膜晶體結構。在光學與電子特性部分,則使用紫外光-可見光-紅外光光譜分析儀與霍爾效應量測儀進行分析。另外,為了能應用於可撓式元件,我們也進行了彎曲電性分析。 我們的研究驗證了此軟性基板上之AZO 薄膜具有高透光
会议
隨著個人穿戴式裝置的需求日益增加,可撓式元件的先驅研究也成為熱門的研究議題。本研究結合氧化銦錫(ITO)及白雲母基板的凡德瓦爾磊晶製程,成功開發出彎折性高且具有高透明度之導電元件,可應用於光電元件及各式導電膜等相關產品。
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在本研究中,我們探討(Ca0.95Sr0.05)(Ti1-xSnx)O3(x=0.01~0.09)之微波特性,由實驗得知(Ca0.95Sr0.05)(Ti0.97Sn0.03)O3 在燒結溫度1350℃持溫四小時擁有最佳微波介電特性:εr~91.23、Q × f~5242GHz、τf~+807.71 ppm/℃.為了跟(Ca0.8Sr0.2)TiO3(τf~+991 ppm/℃)有所區別,A-si
会议
本實驗採用氧化物混合法(mixed oxide method)製作Mn0.1Mg0.9Fe2O4 陶瓷粉末,研究不同燒結溫度對微結構、晶格結構與交流磁化率的影響.鎂錳鐵氧化物經高溫燒結後XRD 結果顯示立方結構尖晶石,晶格常數會隨著燒結溫度提升而縮小.由OM 的表面觀察可以看到隨著燒接溫度的增加晶粒會隨著增加,且具有磁域結構.軟磁材料鎂錳鐵氧化物在交流頻率下磁化率的變化則呈現尼爾鬆弛行為,且燒結溫