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多元素共掺杂铁酸铋薄膜的微结构与电性能研究
多元素共掺杂铁酸铋薄膜的微结构与电性能研究
来源 :第十六届全国电介质物理、材料与应用学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lkcxm
【摘 要】
:
多铁性材料因其在信息存储、自旋电子器件等方面具有潜在的应用价值而被人们广泛的研究。同时,多铁性材料中电有序和磁有序之间的耦合作用也能为人们在器件的设计方面提供更多的自由度。
【作 者】
:
董国华
刘明
谈国强
【机 构】
:
电子与信息工程学院,西安交通大学,西安,710049 材料科学与工程学院,陕西科技大学,西安,71
【出 处】
:
第十六届全国电介质物理、材料与应用学术会议
【发表日期】
:
2016年5期
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多铁性材料因其在信息存储、自旋电子器件等方面具有潜在的应用价值而被人们广泛的研究。同时,多铁性材料中电有序和磁有序之间的耦合作用也能为人们在器件的设计方面提供更多的自由度。
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