【摘 要】
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采用化学气相沉积法在厚度约450 nm的ZnO晶种层上分别生长了ZnO纳米棒/纳米锥阵列,并对其场发射特性进行了研究。研究结果发现:沿c轴择优取向的ZnO晶种层中含有较少缺陷;长度
【机 构】
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深圳大学材料学院; 吉林大学超硬国家重点实验室;
【基金项目】
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国家自然科学基金(51302174,51371120);广东省自然科学基金(2016A030313060);广东省普通高校特色创新项目;深圳市科技计划项目;吉林大学超硬材料国家重点实验室开放课题(201510);深圳陶瓷先进技术工程实验室开放课题(T201508)
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采用化学气相沉积法在厚度约450 nm的ZnO晶种层上分别生长了ZnO纳米棒/纳米锥阵列,并对其场发射特性进行了研究。研究结果发现:沿c轴择优取向的ZnO晶种层中含有较少缺陷;长度分别为7μm和3.5μm的ZnO纳米棒/纳米锥均沿[0001]方向生长,ZnO纳米棒/纳米锥包含大量氧空位缺陷;ZnO纳米棒顶端尺寸约150 nm,而ZnO纳米锥具有非常尖锐的尖端;ZnO纳米棒/纳米锥的面密度分别为2.6×10~8/cm~2和1.9×10~8/cm~2;ZnO纳米锥具有相对较低的开启电场~6.1 V/μm和较高的场增强因子~1641。本文对影响场发射性能的因素进行了讨论。
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