GO复合膜的制备、表征及在含钍放射性废水处理中的应用

来源 :中国化学会第十三届全国水处理化学大会暨海峡两岸水处理化学研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:op0034
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放射性废水处理是人们面临的一个重要环境问题。本工作采用GO粉末、聚多巴胺与GO纳米片层仿生自组装复合,在聚碳酸醋等片状多孔载体上通过真空抽滤法分别制备出GO,PDA/GO复合膜,通过调控膜层二维水通道的大小,用于Th(Ⅳ)离子的浓缩与去除。系统考察了GO膜层厚度、制备时间、PDA/GO比例、钍离子浓度、妞、载体类型(AAO,Al2O3,PC,PAN,PP等材质)等对膜分离性能的影响,结合表征结果,表明:PDA复合使得GO发生了部分还原,有利于调控膜层通道大小;当钍离子浓度为0.1mg/mL时,不同PDA/GO比的复合膜截留率均高于90.0%以上:进料pH对离子截留率影响较大,这可能与Th在不同pH下的存在形态有关,优化条件下,通过调节膜层纳米通道的尺寸大小,膜水通量高达5.0Lm-2h-1,离子截留率高于99.0%,从而实现放射性核素浓缩与去除,将在放射性废水、重金属废水处理等具有潜在应用前景。
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