【摘 要】
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采用脉冲激光沉积技术(PLD)在p-GaN 薄膜表面制备了结晶质量较高的n-ZnO:Ga薄膜,然后分别在p-GaN 和n-ZnO:Ga薄膜表面制备了Ni/Pt 及Ti/Pt 金属电极,构造了n-ZnO:Ga/i-MgO/p-GaN 薄膜异质结发光二级管(LED)原型器件.Ⅰ-Ⅴ特性测试表明,器件具有较好的整流特性,正向开启电压约为7V.电致发光(EL)光谱表明,该器件表现出较强的紫外发光峰,中心波
【机 构】
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曲阜师范大学物理工程学院,山东 曲阜 273165;鲁东大学物理与光电工程学院,山东 烟台264025
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采用脉冲激光沉积技术(PLD)在p-GaN 薄膜表面制备了结晶质量较高的n-ZnO:Ga薄膜,然后分别在p-GaN 和n-ZnO:Ga薄膜表面制备了Ni/Pt 及Ti/Pt 金属电极,构造了n-ZnO:Ga/i-MgO/p-GaN 薄膜异质结发光二级管(LED)原型器件.Ⅰ-Ⅴ特性测试表明,器件具有较好的整流特性,正向开启电压约为7V.电致发光(EL)光谱表明,该器件表现出较强的紫外发光峰,中心波长位于385nm.此外还存在一个较弱的430nm 附近的蓝光发射.对比光致发光(PL)测试结果,可以判断器件的电致发光分别来源于n-ZnO:Ga 和p-GaN 两侧的辐射复合.
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