【摘 要】
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光致抗蚀剂是制造微电子器件和印刷线路板的一种关键化学品.本文主要介绍光致抗蚀剂的研究发展情况.针对目前我国集成电路多代同堂长期共存的局面，从目前及今后IC、分立器件及液晶显示器件的发展趋势来看，无论是紫外胶还是248nm,193nm EUV光致抗蚀剂及离子束、电子束胶，由于它们之间用途不尽相同，且不可互替，所以应继续跟踪国际光致抗蚀剂的发展，进行更深入研究，开发出更高水平光致抗蚀剂，以满足未来市场
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光致抗蚀剂是制造微电子器件和印刷线路板的一种关键化学品.本文主要介绍光致抗蚀剂的研究发展情况.针对目前我国集成电路多代同堂长期共存的局面，从目前及今后IC、分立器件及液晶显示器件的发展趋势来看，无论是紫外胶还是248nm,193nm EUV光致抗蚀剂及离子束、电子束胶，由于它们之间用途不尽相同，且不可互替，所以应继续跟踪国际光致抗蚀剂的发展，进行更深入研究，开发出更高水平光致抗蚀剂，以满足未来市场需求。
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