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化学浴法制备WO3纳米片阵列薄膜及其光电催化降解有机物的性能

来源 :第八届全国环境化学大会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：yuxiguang

【作 者】

：

曾庆意 李金花 白晶 李雪瑾 夏丽刚 周保学 

【机 构】

：

上海交通大学环境科学与工程学院 上海 200240

【出 处】

：

第八届全国环境化学大会

【发表日期】

：

2015年期

【关键词】

：

化学浴 法制备 WO3 纳米片 阵列薄膜 光电催化 降解有机物 

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