【摘 要】
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本文用脉冲等离子体增强化学气相沉积方法，以甲烷和氮气作反应气源，在n-型硅(100)表面上沉积含氮的类金刚石薄膜。薄膜的组成和结构用X光子能谱和红外光谱进行了表征。薄膜的摩擦学特性在UMT往复摩擦机上进行了评价。结果表明：(1)掺氮类金刚石薄膜的氮含量随着前驱气体中氮气含量的改变而改变。随着前驱气体中氮气的增加，薄膜中氮原子的含量逐渐增加；(2)掺氮类金刚石的摩擦学性质和载荷的关系很大，在较低的载
【机 构】
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中国科学院兰州化学物理研究所,兰州 甘肃 730000 兰州大学物理系,兰州 甘肃 730000
【出 处】
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2008全国青年摩擦学与表面保护学术会议
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本文用脉冲等离子体增强化学气相沉积方法，以甲烷和氮气作反应气源，在n-型硅(100)表面上沉积含氮的类金刚石薄膜。薄膜的组成和结构用X光子能谱和红外光谱进行了表征。薄膜的摩擦学特性在UMT往复摩擦机上进行了评价。结果表明：(1)掺氮类金刚石薄膜的氮含量随着前驱气体中氮气含量的改变而改变。随着前驱气体中氮气的增加，薄膜中氮原子的含量逐渐增加；(2)掺氮类金刚石的摩擦学性质和载荷的关系很大，在较低的载荷下，含有较少氮含量的薄膜的摩擦系数为0：07，含有较高氮含量的薄膜的摩擦系数为0.1；在较高的载荷下，薄膜的摩擦系数有所减少。但氮含量的变化对摩擦系数的影响不大(两种薄膜摩擦系数都大约为0.05)，此时薄膜的摩擦寿命会有所缩短。
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