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The Experimental Study on Polycrystalline Silicon Thin Film Prepared with SiH4 by ECR-PECVD
【机 构】
：
Vacuum and Fluid Engineering Research Centre, Northeastern University, Shenyang 110004, P.R.China
【出 处】
：
The 17th International Conference on Surface Modification of
【发表日期】
：
2011年期
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