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综述了超临界二氧化碳在微电子工程中的应用,包括:光刻保护剂剥离、金属薄膜沉积、纳微结构的干燥、薄层涂覆、纳微尺寸显影,低/超低介电膜制造、硅片表面硅烷化和干法刻蚀等方面.超临界二氧化碳独特的物理化学性质及对环境的友好性,为微电子加工过程提供了技术和环境双赢的新平台.
微电子工程的超临界二氧化碳技术平台
【摘 要】
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综述了超临界二氧化碳在微电子工程中的应用,包括:光刻保护剂剥离、金属薄膜沉积、纳微结构的干燥、薄层涂覆、纳微尺寸显影,低/超低介电膜制造、硅片表面硅烷化和干法刻蚀等方面.超临界二氧化碳独特的物理化学性质及对环境的友好性,为微电子加工过程提供了技术和环境双赢的新平台.
【机 构】
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清华大学化学工程系(北京)
【出 处】
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第五届全国超临界流体技术学术及应用研讨会
【发表日期】
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2004年6期
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本文通过不同压力、温度、时间条件试验,确定了CO超临界流体萃取烃源岩中的烃类方法,并与索氏法氯仿萃取及烃类分析结果进行对比,证实了其烃类分析可替代传统萃取方法,并发现超临界萃取法对计算烃产率方面更具实用性.