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本文在相同的恒电流沉积条件下,主要就PbO<,2>薄膜的形貌和所用基底关系进行研究,其目的在于优化形成孔状或小晶粒PbO<,2>薄膜的条件.所研究的基底分别是Au,Pt,Ti,氧化铟锡(ITO)和高定向热解石墨(HOPG).所制得的PbO<,2>薄膜用不同方法进行测试和表征.
PbO薄膜的电化学制备
【摘 要】
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本文在相同的恒电流沉积条件下,主要就PbO薄膜的形貌和所用基底关系进行研究,其目的在于优化形成孔状或小晶粒PbO薄膜的条件.所研究的基底分别是Au,Pt,Ti,氧化铟锡(ITO)和高定向热解石墨(HOPG).所制得的PbO薄膜用不同方法进行测试和表征.
【机 构】
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中山大学光电材料与技术国家重点实验室,物理科学与工程技术学院(广东广州)
【出 处】
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第二十六届全国化学与物理电源学术年会
【发表日期】
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2004年7期
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