【摘 要】
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近年来，胶态晶体越来越受到广泛关注，特别是通过自组装制备的胶态晶体，由于其有序排列结构，形成光子禁带区，可呈现各种颜色。将胶体微球刻蚀制备反相胶态晶体，能够广泛运用于数据存储，传感器以及能源相关的领域。本文主要采用垂直沉降法将自行研制的毛发状高分子微球应用于制备胶态晶体，并探究成膜浓度、pH值、PAA刷对成膜的影响，研究发现控制浓度或pH值可以实现胶态晶体排布由111型向100型转变。
【机 构】
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Institute of Polymerization and Polymer Engineering, Department of Chemical and Biological Engineeri
【出 处】
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2012年全国高分子材料科学与工程研讨会
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近年来，胶态晶体越来越受到广泛关注，特别是通过自组装制备的胶态晶体，由于其有序排列结构，形成光子禁带区，可呈现各种颜色。将胶体微球刻蚀制备反相胶态晶体，能够广泛运用于数据存储，传感器以及能源相关的领域。本文主要采用垂直沉降法将自行研制的毛发状高分子微球应用于制备胶态晶体，并探究成膜浓度、pH值、PAA刷对成膜的影响，研究发现控制浓度或pH值可以实现胶态晶体排布由111型向100型转变。
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