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High-pressure RHEED study of oxide thin films and heterostructures by using PLD

来源 :2011年材料表面与界面国际大会 | 被引量 : 0次 | 上传用户：high

【作 者】

：

J.Li W.Peng Ke Chen Y.Zhang 

【机 构】

：

Beijing National Laboratory for Condensed Matter Physics and Institute of Physics,Chinese Academy of

【出 处】

：

2011年材料表面与界面国际大会

【发表日期】

：

2011年9期

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