用电子束蒸发法制备硅薄膜的表征与性能分析

来源 :07中国(华南地区)真空与光电技术论坛暨广东省真空学会学术年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:chrisliuyaqin
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本实验选用P型硅作为蒸发膜料,用电子束蒸发的方法在导电玻璃上制备了一定厚度且均匀的硅薄膜,利用扫描电子显微镜观察了其微观表面形貌并做了能谱分析,利用分光光度计分析了其光学性质,利用四探针电阻测试仪对其进行电学性质的测量。结果表明,所制备的样品在可见光范围内具有好的吸收性,在衬底温度为200℃时的面电阻为8.5×104Ω/□,为后续硅薄膜太阳电池的制备工作可行性打下了基础。
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