【摘 要】
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采用红外光谱研究了聚硅氮烷(PSZ)裂解过程中的结构变化.结果表明,温度为110℃时在PSZ中加入一定量的引发剂,发生N-H键的间脱氨缩合反应以及C=C键的自由基型自聚反应,从而使N-H及C=C键含量急剧降低.当裂解温度为400℃时,试样中的C-C、Si-C及C-H键开始断裂,以自由基历程向无机物转化,并产生H2及CH4气体.当裂解温度为800℃时,样品已基本被无机化.
【机 构】
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北京航空制造工程研究所,北京,100024
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采用红外光谱研究了聚硅氮烷(PSZ)裂解过程中的结构变化.结果表明,温度为110℃时在PSZ中加入一定量的引发剂,发生N-H键的间脱氨缩合反应以及C=C键的自由基型自聚反应,从而使N-H及C=C键含量急剧降低.当裂解温度为400℃时,试样中的C-C、Si-C及C-H键开始断裂,以自由基历程向无机物转化,并产生H2及CH4气体.当裂解温度为800℃时,样品已基本被无机化.
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