近年来,高功率脉冲磁控溅射技术(HPPMS)以其较高的溅射材料离化率已经成为真空镀膜领域的研究热点,并不断的被应用在硬质涂层、光、电、磁等各种功能薄膜的开发与制备中。然而,不同的溅射材料的HPPMS放电,甚至不同的靶电压下同一种材料的HPPMS放电都存在较大的差异,如何找到一个普适性的规律来指导实验一直是研究者们关心的问题。本文选择了六种不同溅射产额的靶材料(Cu,Cr,Mo,V,Ti,C),对其不同靶电压幅值下的靶电流演化状况进行了深入研究,获得了七种常见的靶电流样式,发现靶电流模式之间的演化取决于溅射材料溅射率、电离能及靶电压,将三个参数组成的区间可以划分为七个部分,分别对应于七种靶电流模式。最后统计了靶电流峰值和靶电流平台值随靶电压的演化曲线,发现随靶电压的增加靶电流峰值和平台值交替增加,并呈现出五个典型的放电阶段,通过对其靶前等离子体发射光谱的测量和分析,获得五个放电阶段的产生机制。