铁皮石斛组培苗在人工光型密闭式植物工厂的适宜光照强度

来源 :第六届全国药用植物和植物药学术研讨会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:zhoufuhai5933
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人工光型密闭式植物工厂中环境调控对珍贵药草培育的产量和质量有重要影响。本研究探索在严格控制温度、湿度、CO2浓度和光周期的条件下,光照强度对铁皮石斛(Dendrobium officinale)组培苗生长发育的影响,以期找到铁皮石斛组培阶段在可控环境下的适宜光照环境.鲜重约300 mg的铁皮石斛单腋芽作为外植体在温度22±1口、湿度65±5%、光周期12hd-1、及光期CO2浓度为800±15 mol mol-2的环境条件下,设置光照强度37,68,92,120molm-2s-1试验区培育了92天。组培容器为容积为380mL的方型聚碳酸酯容器,其顶部留2个直径为10 mm圆孔并覆盖高分子透气膜用来与容器外进行气体交换.铁皮石斛组培苗的生长速度和生理活性在光照强度为68mol m-2s-1时最佳,当光照强度超过92口mol m-2 s-1时呈现光抑制效应.因此,铁皮石斛组培苗在该人工光型密闭式植物工厂的可控环境下的适宜的光照强度在60-70molm-2s-1。
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