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等离子体氧化制备的NiFe/AlO/Co三层膜的研究

来源 :第十届全国磁学和磁性材料会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户：massmass

【作 者】

：

杜军 陈景 吴小山 鹿牧 翟宏如 胡安 

【机 构】

：

南京大学物理系和固体微结构实验室

【出 处】

：

第十届全国磁学和磁性材料会议

【发表日期】

：

1999年12期

【关键词】

：

NiFe/AlO/Co 三层膜 磁性隧道结 磁滞回线 巨磁电阻效应 

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