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携手提升中国半导体IC先进制造工艺
携手提升中国半导体IC先进制造工艺
来源 :2016中国集成电路产业发展研讨会暨第十九届中国集成电路制造年会 | 被引量 : 0次 | 上传用户:lrg123
【摘 要】
:
文章介绍了中国IC制造业的机会,阐明光刻技术是实现晶体管微缩的关键,其就像照片放大机的原理,光刻技术将IC电路图印在晶圆上。
【作 者】
:
金泳璇
【机 构】
:
ASML中国分公司
【出 处】
:
2016中国集成电路产业发展研讨会暨第十九届中国集成电路制造年会
【发表日期】
:
2016年9期
【关键词】
:
半导体芯片
光刻技术
摩尔定律
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文章介绍了中国IC制造业的机会,阐明光刻技术是实现晶体管微缩的关键,其就像照片放大机的原理,光刻技术将IC电路图印在晶圆上。
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