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<正>光刻机光源优化(Source Optimization,SO)是一种分辨率增强技术。该技术即可以单独使用,又可以作为光源掩模优化(Source Mask Optimization,SMO)技术的一部分。SO技术已经在2Xnm逻辑芯片制造中得到了应用。相对于SMO技术,SO技术不需要制造新掩模,实现速度快,可以充分发挥自由照明的优势,因而得到了越来越广泛的研究。成像模型和优化方法是SO技术中的主要研究内容。早期的SO技术采用标量成像模型。这种成像模型中没有考虑光的偏振效应,也没有考虑掩模厚度对成像的影响,并采用了Hopkins近似。在32 nm及其以下节点,采用这种模型计算得到的像与实际差异较大,因而必须引入更加精确的模型。SO中的优化方法包括