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本文研究了在低压等离子体化学气相沉积技术进行微球表面CH膜的制备过程中的反弹盘的工艺技术,讨论了反弹盘的振动频率、表面情况以及微球静电等因素对微球跳动的影响,并给出了解决这些问题的方法.
LPP-CVD法制备微球表面CH膜的反弹盘技术
【摘 要】
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本文研究了在低压等离子体化学气相沉积技术进行微球表面CH膜的制备过程中的反弹盘的工艺技术,讨论了反弹盘的振动频率、表面情况以及微球静电等因素对微球跳动的影响,并给出
【机 构】
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中国工程物理研究院激光聚变研究中心(四川绵阳)
【出 处】
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第七届全国激光科学技术青年技术交流会
【发表日期】
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2003年8期
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