【摘 要】
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结合电子束曝光(EBL)技术和水热生长方法制备了周期性单根ZnO纳米棒阵列。在预制有ZnO种子层的ITO基底上,旋涂制备聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)层,通过电子束曝光过程构筑周期性多
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结合电子束曝光(EBL)技术和水热生长方法制备了周期性单根ZnO纳米棒阵列。在预制有ZnO种子层的ITO基底上,旋涂制备聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)层,通过电子束曝光过程构筑周期性多孔PMMA模板,然后在模板的辅助下,水热生长周期性ZnO纳米棒阵列。由于模板的限制作用,ZnO纳米棒严格垂直基底。低温(90°C)生长条件提供了良好的基底兼容性1。另外,前驱体浓度对ZnO形貌有很大调控作用,利用高浓度(0.15 M)的前驱体溶液可以防止纳米棒形成簇状阵列2,进而形成周期性单根纳米棒阵列。
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