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离轴非球面元件的应用可以使光学系统在成像质量和轻量化程度上得到最大限度的提高。但最接近球面以及研磨去除量的求解仍然是加工环节中极为重要的问题,为此,提出了一种同时考虑研磨去除量最小准则和研磨变化量要求的最接近球面及研磨去除量的求解方法,可适用于二次及高次离轴非球面最接近球面及研磨去除量的精确求解,具有普遍意义。通过编程实例计算了最接近球面的半径、最大研磨去除量和研磨去除总量,与经验公式计算结果的比较表明了该方法求解结果的优势,同时离轴非球面加工中的实际应用也证明了该方法的正确性。该方法的提出对离轴非球面加工具有一定的理论和实际指导意义。