【摘 要】
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本文采用Particle-in-cell(PIC)方法对轴承滚珠的离子注入过程进行了数值模拟,并对其表面的均匀性进行了研究,获得了注入剂量的分布曲线以及真空室的电势分布随时间的变化曲线.研究结果表明,金属等离子体密度分布在一定模拟时间后达到稳定状态,基体偏压和等离子体密度的变化会引起电势分布的变化.
【机 构】
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哈尔滨工业大学现代焊接生产技术国家重点实验室
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本文采用Particle-in-cell(PIC)方法对轴承滚珠的离子注入过程进行了数值模拟,并对其表面的均匀性进行了研究,获得了注入剂量的分布曲线以及真空室的电势分布随时间的变化曲线.研究结果表明,金属等离子体密度分布在一定模拟时间后达到稳定状态,基体偏压和等离子体密度的变化会引起电势分布的变化.
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