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研究了光栅形貌(形状、深度、占空比等)对DFB激光器性能的影响，通过比较分析选择矩形光栅进行相关工艺的摸索。实验中采用电子束曝光技术在DFB激光器上波导层直接扫描曝光制作周期为240 nm均匀光栅，然后采用反应离子刻蚀(RIE)和化学湿法腐蚀(Br2)相结合的方法成功制作了高垂直度、占空比约为5096的均匀矩形光栅。