【摘 要】
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本文在室温下应用对靶磁控溅射法在玻璃基底上制备C/Co/C颗粒膜.C靶和Co靶分别采用射频溅射和直流对靶溅射模式.我们用X射线衍射仪(XRD)、扫描探针显微镜(SPM)、超导量子干涉
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本文在室温下应用对靶磁控溅射法在玻璃基底上制备C/Co/C颗粒膜.C靶和Co靶分别采用射频溅射和直流对靶溅射模式.我们用X射线衍射仪(XRD)、扫描探针显微镜(SPM)、超导量子干涉仪(SQUID)和振动样品磁强计(VSM)分析了Co层厚度的变化对沉积未退火样品的磁特性和微结构的影响.结果表明沉积的未退火样品有较弱的Co(002),(101)峰出现,磁畴粒子之间相互贯通,没有明确的边界.且随着磁性层厚度的增加,磁畴团族增大.在磁性层厚度为20nm时,矫顽力(H<,c>)达到最大值约171Oe,剩磁矩形比S为0.88.
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