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电子束蒸发沉积ITO透明导电薄膜的物理性质研究
电子束蒸发沉积ITO透明导电薄膜的物理性质研究
来源 :第九届全国LED产业研讨与学术会议 | 被引量 : 0次 | 上传用户:bareet
【摘 要】
:
目前制备ITO薄膜方法有蒸发、磁控溅射、反应离子镀、化学汽相沉积、热解喷涂等,本文采讨论用电子束加热蒸镀的方法制备ITO薄膜,并研究ITO薄膜光电特性.
【作 者】
:
田洪涛
谢雪峰
吴启保
【机 构】
:
方大集团股份有限公司(广东深圳)
【出 处】
:
第九届全国LED产业研讨与学术会议
【发表日期】
:
2004年期
【关键词】
:
电子束
蒸发沉积
透明导电薄膜
化学汽相沉积
光电特性
磁控溅射
膜方法
离子镀
蒸镀
热解
喷涂
加热
法制
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目前制备ITO薄膜方法有蒸发、磁控溅射、反应离子镀、化学汽相沉积、热解喷涂等,本文采讨论用电子束加热蒸镀的方法制备ITO薄膜,并研究ITO薄膜光电特性.
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