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本文基于文献[4]HaberlandⅡ型装置较系统实验了一定能量的Al、Mo、Cu等团簇束分别沉积在P-Si(111)、P-Si(100)及其SiO<,2>基底上生长薄膜的过程和一些结果并和常规磁控溅射的结果进行了比较.
金属团簇束在硅基上的沉积成膜
【摘 要】
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本文基于文献[4]HaberlandⅡ型装置较系统实验了一定能量的Al、Mo、Cu等团簇束分别沉积在P-Si(111)、P-Si(100)及其SiO基底上生长薄膜的过程和一些结果并和常规磁控溅射的结
【机 构】
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兰州大学物理科学与技术学院(甘肃兰州)
【出 处】
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第十二届全国电子束、离子束和光子束学术年会
【发表日期】
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2003年期
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