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该文提出应用单镀层和双镀层光刻法制作电子束云纹光栅的新工艺，对电子束光刻制栅设备、电子束云的形成机理进行了介绍。作者成功地研制出单镀层10000线/毫米的光栅。本文还应用所制的单镀层、双镀层光栅进行了800℃高温实验。实验结果表明，光栅具有较好的抗氧化能力。
亚微米级电子束云纹光栅的研制及应用
【摘 要】
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该文提出应用单镀层和双镀层光刻法制作电子束云纹光栅的新工艺，对电子束光刻制栅设备、电子束云的形成机理进行了介绍。作者成功地研制出单镀层10000线/毫米的光栅。本文还应
【机 构】
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清华大学工程力学系
【出 处】
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第九届全国实验力学学术会议
【发表日期】
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2000年期
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