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四氟化碳现今被大量使用在微电子行业中,它在全氟碳族化合物中最稳定同时在大气中含量最大,而且是大气中的一种强温室气体。本文使用氧气,空气,氩气等离子体采用介质阻挡放电的方法对其进行降解。实验结果显示,氩气等离子体对于CF4降解效果最佳,在外施电压1000V条件下放电4min后降解率可达98.2％,增加等离子体中水汽含量不能提高CF4在等离子体中降解效果。