【摘 要】
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本文采用微弧氧化的方法对金属铝基板表面进行绝缘化处理.通过XRD、SEM对膜层进行了研究分析,并测试了膜层的绝缘性能和介电性能.研究结果表明:绝缘膜层主要由α-Al2O3和γ-A
【机 构】
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南京航空航天大学材料科学与技术学院,江苏,南京,210016
【出 处】
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第四届中国热处理活动周暨第九届江苏省热处理年会
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本文采用微弧氧化的方法对金属铝基板表面进行绝缘化处理.通过XRD、SEM对膜层进行了研究分析,并测试了膜层的绝缘性能和介电性能.研究结果表明:绝缘膜层主要由α-Al2O3和γ-Al2O3两相组成,微弧氧化膜层的绝缘电阻率为6.5×1012Ω·cm,具有较好的绝缘性能.在500kHz～2MHz低频率段微弧氧化绝缘薄膜的介电常数在25～50之间,＜500kHz时存在松弛极化现象,随着频率的减小介电常数迅速增大.介质损耗tanδ在0.5～1.0之间,＞12MHz随着频率的增大tanδ迅速增大,并在15MHz附近出现介质损耗峰.
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