【摘 要】
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在TFT-LCD生产过程中,重复性缺陷是光刻工艺中最常出现的一类不良,它的特点是不良在显示屏上位置固定,重复出现的规律性明显.在对该不良多年的跟踪研究过程中发现,个别尺寸产品在生产中发生概率较为频繁;本文首先介绍了光刻工艺和掩膜板(Mask)的构造,之后使用Canon MPA7800镜像投影对位曝光机为实验设备,对掩膜板耐Particle性能进行了深入分析与探讨,得出耐Particle的影响因素为
【机 构】
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北京京东方光电科技有限公司,北京 100176
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在TFT-LCD生产过程中,重复性缺陷是光刻工艺中最常出现的一类不良,它的特点是不良在显示屏上位置固定,重复出现的规律性明显.在对该不良多年的跟踪研究过程中发现,个别尺寸产品在生产中发生概率较为频繁;本文首先介绍了光刻工艺和掩膜板(Mask)的构造,之后使用Canon MPA7800镜像投影对位曝光机为实验设备,对掩膜板耐Particle性能进行了深入分析与探讨,得出耐Particle的影响因素为曝光剂量,并且量化了曝光计量与耐Particle性能指标的数值关系.
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本文研究了金属氧化物薄膜晶体管栅极二氧化硅薄膜绝缘层的制备和性能.二氧化硅的制备采用低温等离子体增强化学气相沉积法(PECVD),高质量和高绝缘性的氧化硅能够减少栅极漏电流和提高栅极击穿电压,同时二氧化硅薄膜还能够保护金属氧化物层免遭等离子体的损害来提高金属氧化物的电学特性.本文还研究了通过改变N20/SiH4的配比、成膜功率和成膜温度,来得到高质量和高绝缘性的二氧化硅薄膜,同时还研究了不同条件下
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本文详细的讨论了几种NB产品逻辑功耗的降低方法,包括面板的RC负载,驱动方式,功能设定及电路设计方面,在实际应用中,这些方法经验证都是有效果的.合理的应用这几种方法,可降低产品的逻辑功耗,延长电池使用寿命.
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