【摘 要】
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叙述了使用溶胶-凝胶法在Si(001)基片上制备不同厚度的铁电铌酸锶钡薄膜的过程,使用X射线衍射,扫描电子显微镜,拉曼散射光谱等方法研究薄膜的微结构与薄膜厚度之间的关系,薄
【机 构】
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浙江大学现代光学仪器国家重点实验室(浙江杭州)香港理工大学应用物理系及材料研究中心(香港九龙红堪)
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叙述了使用溶胶-凝胶法在Si(001)基片上制备不同厚度的铁电铌酸锶钡薄膜的过程,使用X射线衍射,扫描电子显微镜,拉曼散射光谱等方法研究薄膜的微结构与薄膜厚度之间的关系,薄膜的厚度一直能够达到5μm.实验发现,随着厚度的增加,SBN60薄膜在(001)方向的优先取向性越来越好.在逐层生长的过程中,处于底层的膜层能够起到缓冲层的作用,以逐渐改善薄膜与基片之间的晶格失配,从而使得晶体的结晶取向性越来越好.
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