为制备具有良好耐蚀性能与析氢催化性能的镍基复合镀层,通过脉冲电沉积的方式,以Q235钢为基体,制备了Ni-Sn/TiO₂复合镀层。利用能谱仪、扫描电镜、激光共聚焦显微镜、Tafel曲线和电化学阻抗谱等手段研究了脉冲占空比、电镀时间、搅拌速率等工艺参数及TiO₂质量分数对Ni-Sn/TiO₂镀层的成分、表面形貌、粗糙度及耐蚀性能的影响。通过脉冲电沉积的方式,以纯铜为基体,制备了NiW/MoS₂复合镀层。利用循环伏安曲线、电化学阻抗谱、计时电流等手段研究了Ni-Sn/TiO₂复合镀层的沉积机理;利用能谱仪、激光共聚焦显微镜、阴极极化曲线和电化学阻抗谱等方法研究了MoS₂活化时间、电流密度等工艺参数及十二烷基硫酸钠质量分数、MoS₂质量分数对Ni-W/MoS₂镀层的成分、3D形貌、粗糙度及析氢性能的影响。Ni-Sn/TiO₂复合镀层研究结果表明,耐蚀性最佳的电沉积工艺为:脉冲占空比0.2,电镀时间30 min,搅拌速率40 rpm,耐蚀性最佳TiO₂质量分数为5.0 g·L^-1。Ni-Sn/TiO₂复合镀层的电沉积过程存在成核行为,电极反应是一个不可逆过程,电沉积过程主要受动力学控制,成核机制为瞬时成核。Ni-W/MoS₂复合镀层研究结果表明,析氢性能最佳的电沉积工艺为:MoS₂活化时间4 min,电流密度7 A·dm^-2,析氢性能最佳的十二烷基硫酸钠质量分数为0.4g·L^-1,MoS₂质量分数为1.0 g·L^-1。图40幅;表35个;参79篇。