含氯有机污染物在工业中应用广泛,性质稳定,易在环境中积累。光催化还原降解含氯有机污染物具有较高应用价值。结合化学还原和光催化技术的特点,光催化还原脱氯将含氯有机物中的氯原子还原以脱毒。半导体催化剂g-C₃N₄具有无毒、稳定性好、价格低廉等优势,受到国内外学者的广泛关注。但g-C₃N₄单体具有光生电子空穴易复合、催化效率较低等缺点,因此对其进行修饰改性具有重要的研究意义。本研究以二氰二胺作为前体物高温煅烧制备了g-C₃N₄催化剂,并通过制备g-C₃N₄/Bi₂MoO₆、g-C₃N₄/Au/Bi₂MoO₆、g-C₃N₄/Bi₂WO₆等对其进行修饰改性。利用SEM、TEM等表征催化剂的形貌结构;XRD、XPS表征催化剂的晶型及元素化学状态;利用BET表征催化剂的表面性质;利用电化学表征如i-t、EIS等分析催化剂的化学性质。结合光催化还原脱氯实验,研究探讨了光催化还原过程中的电子转移机制。采用机械混合煅烧法制备了g-C₃N₄/Bi₂MoO₆异质结。异质结形成后,在内电场的作用下,空穴由Bi₂MoO₆的价带向g-C₃N₄的迁移,电子由g-C₃N₄的导带向Bi₂MoO₆的迁移,促进了光生电子和空穴的分离,提高光催化效率。研究表明,g-C₃N₄/Bi₂MoO₆（2:8）具有最佳光催化还原脱氯效果,在3 h内对2,4-DCP的降解效率达到99%。采用光还原法将Au负载在异质结g-C₃N₄/Bi₂MoO₆上,进一步提高了光催化还原脱氯效率。Au作为助催化剂与基底形成了肖特基势垒,促进了光生电子和空穴的完全分离,增强了光催化还原性能。通过改变负载顺序,先将Au负载在g-C₃N₄上,再与Bi₂MoO₆煅烧制得g-C₃N₄/Au/Bi₂MoO₆光催化剂。结果表明,该催化剂具有良好的光催化效果,在2h内对2,4-DCP的降解效果运到100%。采用机械混合煅烧法制备了不同质量比的Z-scheme复合催化剂g-C₃N₄/Bi₂WO₆。实验结果表明,g-C₃N₄/Bi₂WO₆（3:7）具有最佳光催化还原脱氯效果,在2 h内对2,4-DCP的降解效果达到100%。Z-scheme催化剂良好的光催化活性主要获益于其Z型的电子传递路径,促进光生电子和空穴的完全分离。本研究拓展了光催化还原技术在有机污染物的降解方面的应用。