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针对磁盘微晶玻璃基板的表面要求，论文提出了获取超光滑表面的系统的观点，并对获取超光滑表面的各个环节提出了解决方法。 论文概述了国内外超光滑表面加工技术的现状和存在的问题，阐述了超光滑表面的加工机理。在研究各种超光滑表面加工技术的基础上，提出了两步抛光法获得磁盘微晶玻璃基板超光滑表面的加工方法，阐述了该方法的加工原理，采用双面加工设备，进行了双面抛光试验；根据获取超光滑表面的系统观点，论文提出了超光滑表面的清洗技术和检测方法，这些都是获得超光滑表面不可缺少的因素。通过两步抛光的磁盘微晶玻璃基板，其表面粗糙度达到3。