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采用多弧离子镀成功地在TiNi记忆合金表面沉积了钽镀层,提高了TiNi合金的X光可见性.采用表面分析技术、电化学测试技术、纳米压痕技术和血液相容性试验系统研究了镀钽TiNi合金表面特性、微观组织结构、力学行为、抗腐蚀行为及血液相容性.研究发现,采用多弧离子镀在TiNi合金表面获得了均匀、致密的β-Ta微晶镀层.钽镀层曝露于空气中发生氧化,表面生成氧化物薄膜.氧化物的最外层为高价钽的氧化物(Ta<,2>O<,5>)、次外层为低价钽的氧化物混合物.经适当的退火处理,β-Ta转变为α-Ta.多弧离子镀工艺参数对钽镀层的表面形貌和表面粗糙度算术均方根值(RMS)有明显影响.随着负偏压的增加,钽镀层表面的RMS值降低.随着沉积时间的增加,RMS值增大.对沉积时间为100min和负偏压为300V的试样进行退火发现,退火后RMS值增加.负偏压和沉积时间对钽镀层纳米压痕硬度和弹性模量无明显影响,而经退火处理后,由于硬而脆的β-Ta转变为柔韧性良好的α-Ta相,纳米压痕硬度显著下降,从14~16GPa降至4.5~5.5GPa.退火处理显著提高了镀层与基体的结合力,但对镀层弹性模量无明显影响.TiNi合金在0.9﹪NaCl溶液中由于Cl<'->离子的作用发生了点腐蚀,随着NaCl浓度的增加或pH值的降低,抗腐蚀能力下降,Ni离子析出量增大.表面镀钽后TiNi合金耐蚀性显著提高,腐蚀电流密度下降,点蚀电位升高,表面钝化膜的自修复能力增强.镀钽TiNi合金表面的氧化钽钝化膜致使开路电位(OCP)随时间延长而正向移动.镀钽TiNi合金的腐蚀存在两种主要形式:当负偏压较低,沉积时间较短时,钽镀层较薄且疏松、存在针孔等微观缺陷,腐蚀形式主要为点蚀;当负偏压较高,沉积时间较长时,钽镀层致密且较厚,未发现针孔等微观缺陷,腐蚀形式主要为均匀腐蚀.Ni离子溶出试验表明,镀钽有效抑制了Ni离子的析出,在0.9﹪NaCl溶液中浸泡49天后,镀钽TiNi合金试样Ni离子的析出量约为未镀钽试样的1/30.这是由于一方面镀钽后TiNi合金的抗腐蚀性能得到提高;另一方面钽镀层作为阻挡层,使TiNi合金中Ni离子析出或扩散进入溶液的距离增大,从而导致Ni离子析出更加困难.TiNi合金钽镀层表面光滑,粗糙度低,并且,表面Ta<,2>O<,5>浸泡于血液中呈负电性,降低了荷负电荷血小板的粘附,从而改善了镀钽TiNi合金的血液相容性.在综合分析镀钽TiNi合金组织结构—性能—工艺之间的内在联系及其微观机理的基础上,确立了获得优异耐蚀性能和血液相容性的多弧离子镀及后处理工艺:基体负偏压为300V,沉积时间为100min,退火温度为900℃.