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离线低辐射(Low-E)薄膜凭借其优秀的光谱选择性而广泛应用于建筑领域。但是却存在膜层厚度难以把握,功能层稳定性差、易氧化、与基底粘附力弱等问题。本文以Drude模型为基础,使用特性矩阵计算TiO2/NiCr/Au-Ag/NiCr/TiO2复合膜系的光学常数,设计该膜系的结构及每层的厚度,用磁控溅射的方法制备出各膜层,通过膜厚测控仪和和椭偏仪测量膜层厚度,确定制备各膜层所需厚度的工作参数；通过X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电镜(FESEM)、原子力显微镜(AFM)分析薄膜样品表面的微观结构；采用