TiN及(Ti,Al)N涂层电化学腐蚀行为研究

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该论文电化学技术、表面分析技术及谱学技术评价了涂层的耐蚀性,研究了涂层在0.5M NaCl和1M H<,2>SO<,4>体系中的溶解行为;探讨了涂层在常温下电化学体系中的保护特性以及失效机制.通过以上工作获得了如下几个主要结论:离子镀膜TiN和(Ti,Al)N涂层增加了基体在腐蚀介质中的耐蚀性;涂层在电化学腐蚀过程中的防护作用表现为一处机械阻挡作用;TiN涂层在1M H<,2>O<,4>体系中的失效机制为"闭塞区域"下的点蚀过程来解释,(Ti,Al)N涂层的失效机制为一种涂层与基体共同作用导致的失效机制.
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