紫外照射会严重影响纺织品的性能,如力学性能降低、黄变、染色织物褪色等。为了保护紫外照射下蚕丝纤维和染色锦纶/芳纶织物的力学性能和色泽,本课题运用原子层沉积(Atomic Layer Deposition,ALD)技术在蚕丝纤维和染色锦纶/芳纶织物表面沉积纳米级的氧化物薄膜,以期获得良好的抗紫外效果。论文运用ALD技术在蚕丝纤维表面沉积不同循环次数的TiO2,并对ALD处理前后纤维的结构和性能进行表征。扫描电子显微镜(SEM)、X射线能谱(EDS)和X射线光电子能谱(XPS)结果表明经ALD处理后蚕丝纤维表面沉积了一层均匀的保型性好的纳米级TiO2薄膜。通过X射线衍射(XRD)分析煅烧后纤维的结晶性能,结果再次证实纤维表面沉积的物质为TiO2;热重分析和力学性能分析结果表明表面沉积TiO2的蚕丝纤维的热稳定性和力学性能均略有增强。论文研究了经ALD技术处理后蚕丝纤维抗紫外性能。对纤维的紫外吸收性能和紫外照射后纤维的力学性能和色泽进行表征。研究结果表明经处理后纤维的紫外吸收性能增加,且呈现TiO2的吸收特征峰,纤维因紫外照射引起的力学性能损失和黄变显著减少,经ALD技术处理后表面沉积TiO2薄膜的蚕丝纤维获得了优异的抗紫外性能。最后,论文将ALD技术应用于材料成分复杂的染色锦纶/芳纶织物抗紫外整理。应用SEM、EDS、XPS、TG、拉伸测试、色泽测试等测试方法对织物的结构和性能进行表征。研究结果表明:经ALD处理后染色锦纶/芳纶织物表面形成了一层非均匀的纳米级薄膜,ALD薄膜能扩宽染色锦纶/芳纶织物的热分解温度范围,且ALD处理过程不会降低织物本身的力学性能;ALD薄膜能有效减少染色锦纶/芳纶织物因紫外照射引起的力学性能下降和褪色,且抗紫外效果由强到弱顺序为200cyc TiO2/50cyc Al2O3>300cyc TiO2>300cyc Al2O3。基于ALD技术成膜性好,薄膜保形性好、厚度易控的特点,可以将其广泛应用于高分子材料的抗紫外整理及其它功能整理中。