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化学气相沉积法制备石墨烯因具有工业化生产石墨烯的潜力而受到广泛关注。采用铜箔为衬底和催化剂的化学气相沉积,可以制备出大面积均匀的单层石墨烯,对实现单层石墨烯的工业化应用有很大的推动作用。研究发现,与单层石墨烯不同,AB堆垛的双层石墨烯在垂直电场的调控下可以打开一个可调的能隙,这在石墨烯微电子器件中具有很大的应用前景。然而,在铜箔表面生长石墨烯为自限制生长机制,这给制备均匀双层石墨烯带来了挑战。由石墨烯和半导体纳米颗粒组成的复合体系在光电器件中有很大的应用前景。通常,制备这类复合体系是在溶液中合成还原