【摘 要】
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该文分析了金刚石及类金刚石等碳基薄膜电场致电子发射的研究进展,以及目前提出的一些有关金刚石及类金刚石薄膜的场发射机制.我们利用脉冲激光沉积(PLD)技术,在室温下分别在
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该文分析了金刚石及类金刚石等碳基薄膜电场致电子发射的研究进展,以及目前提出的一些有关金刚石及类金刚石薄膜的场发射机制.我们利用脉冲激光沉积(PLD)技术,在室温下分别在硅和陶瓷上镀钼的补底上制备了类金刚石薄膜.用制备好的类金刚石薄膜作阴极,透明导是怕玻璃及导电玻璃上镀荧光薄膜作阳极制成二极管结构,对类金刚石薄膜的场发射性有进行了研究,并对类金刚石薄膜的发射机制进行了初步探讨.该文系统研究了掺氮对类金刚石薄膜冷阴极场发射的影响.利用制备好的金刚石及类金刚石薄膜等碳基材料做阴极,在ITO薄膜上有和电泳法及脉冲激泊沉积法制备荧光薄膜做阳极,采用具有创新性的工艺技术,制备了平板显示器样机.
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