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熔石英光学材料是一种高新技术产品，在现代各领域的应用越来越广泛，特别是航天航空等领域具有大量应用需求，其制造成本和制造工艺的复杂性远远超过其他同类产品。由于其产品的制造难度较大，因此其成品质量的高低就成为了人们最为关注的问题，其中尤以亚表层损伤的问题至关重要。本文就以熔石英光学元件的亚表层损伤机理、检测实验方法及工艺等方面进行了相关的研究和论述。论述了几种常用的亚表层损伤检测方法和原理，分析了其优缺点。在此基础上说明了使用荧光共聚焦显微技术来检测光学元件亚表层损伤的可行性和准确性。从