【摘 要】
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具有特定尺寸分布和取向的反浸润纳米颗粒阵列具有独特的光、电、磁及催化性能,在等离子体技术、传感器和一维纳米结构合成等方面具有广阔的应用前景。目前的研究主要集中在处理参数方面,但反浸润基底也是影响颗粒分布和取向的重要因素。本论文基于课题组前期研究成果,即热处理过程中氧化物基底生长现象,在不引入额外组分的情况下,研究基底对反浸润颗粒的尺寸分布和取向的影响。本研究成果可为调控反浸润纳米颗粒提供新思路。主
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具有特定尺寸分布和取向的反浸润纳米颗粒阵列具有独特的光、电、磁及催化性能,在等离子体技术、传感器和一维纳米结构合成等方面具有广阔的应用前景。目前的研究主要集中在处理参数方面,但反浸润基底也是影响颗粒分布和取向的重要因素。本论文基于课题组前期研究成果,即热处理过程中氧化物基底生长现象,在不引入额外组分的情况下,研究基底对反浸润颗粒的尺寸分布和取向的影响。本研究成果可为调控反浸润纳米颗粒提供新思路。主要结论如下:（1）MgAl2O4,Sr Ti O3,Ti O2,ZnO四种单晶基底上反浸润金纳米颗粒的双峰分布与基底生长现象有关。金膜反浸润过程中,氧化物基底生长过程伴随的金原子表面扩散是使颗粒尺寸呈现双峰分布的重要原因。（2）通过对比晶格匹配体系和失配体系中所得基座的形貌,证实基座形状不影响反浸润颗粒的分布特征。（3）通过对失配体系Au-ZnO中Au膜的反浸润进行研究,证明随着温度的升高和保温时间的延长,ZnO基底的形貌变化加剧,颗粒物相有所变化,温度较高时会出现Au3Zn和Au5Zn3等物相,所得Au颗粒存在择优取向。（4）在Au-ZnO体系中,ZnO表面的截止面对基底生成的纳米结构的影响较大,对颗粒的物相及取向有一定的影响。
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