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本文在不同的工艺参数和电解液体系条件下,采用微等离子体氧化技术在AZ91D镁合金表面原位生成陶瓷膜,研究电解液体系、电流密度、反应时间、频率对陶瓷膜层耐热震性的影响,得出适合镁合金微等离子体氧化原位生长陶瓷膜的工艺参数,制备出硬度、结合强度高的陶瓷膜,并研究了陶瓷膜的组成、结构。首先利用涡流测厚仪测定了不同条件下陶瓷膜的厚度,通过扫描电子显微镜、X射线衍射及散射能谱测试技术研究了陶瓷膜的形貌和组成。然后通过对陶瓷膜的表面形貌进行观察发现,在陶瓷膜表面存在颗粒和气孔,随着电流密度增大,颗粒和气孔尺寸都增大,而随频率的变化规律则相反。此外XRD结果表明生成的陶瓷膜中都含有立方结构的MgO,尖晶石相的MgAl2O4以及少量的Mg2SiO4,随着时间的延长,MgO含量增加,Mg2SiO4含量变化不大。最后点成分分析表明,随着电流密度增大,膜层中氧元素含量逐渐增大,镁元素含量先增大后减小,铝元素含量变化不大,硅元素含量有所增加。