本文首先介绍了最近文献发表的一些基本微光学元件，微透镜阵列、微镜、光开关、光栅的最新应用、制备方法，其中重点介绍了亚波长光栅的新发展。由于本文的主要工作是制备，因此对还处于研究阶段的新微细加工工艺也做了简单介绍，通过以上两方面的阅读，应该可以对目前微光学研究的重点发展方向有大致的了解。接着，分别利用严格耦合波（RCWA）法和等效介质法对光栅的反射率进行了分析，并用RSoft软件对各种结构参数下的反射率进行了模拟计算，该软件采用的理论基础为RCWA。实验部分主要是用X射线光刻、电子束光刻等工艺制备了两个垂直度好、高深宽比的亚波长光栅结构，其中一个周期为500nm，深宽比约为8，另一个周期为666nm，深宽比为2。创新点在于以光刻胶NUC APZ6633为中间层，保证了结构的垂直度，另外快速原子刻蚀（FAB）利用中性原子轰击所要刻蚀区域，也可以保证侧壁的竖直度。然后，还利用MEMS技术制备的硅模具，在PDMS、PLLA、PS这几种聚合物材料基片上做了转写实验，结果显示这三种材料均可以作为纳米压印的备选材料。其中PDMS还可以做成可变周期的光栅，变化范围在0-20%。最后是对曲面光栅部分预研工作的阐述。